物理氣相沉積是指用于各種材料的表面工程的多種真空薄膜涂層方法。PVD涂層方法采用多種方法之一，將目標材料生成并沉積到基板表面，包括濺射沉積，PVD涂層方法通常用于光電子器件的制造、汽車和航空航天的精*部件等。今天我們來了解一下氮化硼陶瓷的相關(guān)知識。
　　濺射是一個獨特的過程，通過持續(xù)的等離子轟擊，粒子被強行從目標材料中噴出。氮化硼陶瓷廣泛用于將濺射室中的等離子弧約束到目標材料上，并防止工藝室中整體部件的侵蝕。
　　圣戈班氮化硼提供幾個Combat?可加工陶瓷的型號可用于PVD組件。AX05、HP 和 ZSBN 級通常用于制造用于 PVD 等離子室的電弧護罩和導軌、目標框架、屏蔽和襯墊。
　　氮化硼陶瓷用于霍爾推進器
　　霍爾效應推進器使用等離子體作為軌道衛(wèi)星和深空探測器的推進方法。這種等離子體是由推進劑氣體的電離產(chǎn)生的，推進劑氣體通過高性能陶瓷通道內(nèi)的強烈徑向磁場。應用的電場軸向加速等離子體并通過放電通道，達到每小時數(shù)萬英里的潛在出口速度。這種先進技術(shù)的挑戰(zhàn)是陶瓷放電通道屈服于過早的等離子體侵蝕。
　　氮化硼陶瓷已成功用于延長霍爾效應等離子推進器的使用壽命，同時不限制其電離效率，也不限制其推進能力。